光刻机唯一上市公司(光刻机上市公司龙头股票) - 鸿海伟业生活资讯网
本文目录一览:
- 1、生产光刻机有哪些上市公司
- 2、生产光刻机有哪些上市公司?
- 3、光刻机唯一上市公司
生产光刻机有哪些上市公司
生产光刻机上市公司:ABM、上海微电子装备有限公司、佳能、尼康。
1、ABM
ABM公司成立于1986年,总部位于美国硅谷San Jose。主要经营光罩对准曝光机(光刻机),单独曝光系统,光强仪/探针。公司的主要市场在美国和亚洲。
ABM总部位于美国硅谷,亚太销售服务、维修中心设于中国香港,公司在亚洲的中国、韩国、日本、印度、新加坡、马来西亚、台湾地区设有 *** 机构。W.J.H.公司为ABM指定的中国独家 *** 商。
2、上海微电子装备有限公司
上海微电子装备有限公司坐落于张江高科技园区内,邻近国家集成电路产业基地、国家半导体照明产业基地和国家863信息安全成果产业化(东部)基地等多个国家级基地。
公司成立于2002年,主要致力于大规模工业生产的投影光刻机研发、生产、销售与服务,公司产品可广泛应用于IC制造与先进封装、MEMS、TSV/3D、TFT-OLED等制造领域。
3、佳能
佳能(Canon),是日本的一家全球领先的生产影像与信息产品的综合集团,从1937年成立以来,经过多年不懈的努力,佳能已将自己的业务全球化并扩展到各个领域。
4、尼康
尼康作为世界上仅有的三家能够制造商用光刻机的公司,似乎在这个领域不被许多普通人知道,许多人只知道尼康的相机做的好,却不知道尼康光刻机同样享誉全球。
参考资料来源:百度百科-ABM
参考资料来源:百度百科-佳能
参考资料来源:百度百科-尼康
参考资料来源:百度百科-上海微电子装备有限公司
生产光刻机有哪些上市公司?
生产光刻机上市公司有ABM、上海微电子装备有限公司、佳能、尼康、荷兰A *** L公司.
1、ABM
ABM公司成立于1986年,总部位于美国硅谷San Jose。主要经营光罩对准曝光机(光刻机),单独曝光系统,光强仪/探针。公司的主要市场在美国和亚洲。
2、上海微电子装备有限公司
上海微电子装备有限公司坐落于张江高科技园区内,邻近国家集成电路产业基地、国家半导体照明产业基地和国家863信息安全成果产业化(东部)基地等多个国家级基地。
公司成立于2002年,主要致力于大规模工业生产的投影光刻机研发、生产、销售与服务,公司产品可广泛应用于IC制造与先进封装、MEMS、TSV/3D、TFT-OLED等制造领域。
3、佳能
佳能的产品系列共分布于三大领域:个人产品、办公设备和工业设备,主要产品包括照相机及镜头、数码相机、打印机、复印机、传真机、扫描仪、广播设备、医疗器材及半导体生产设备等。
4、尼康
尼康作为世界上仅有的三家能够制造商用光刻机的公司,似乎在这个领域不被许多普通人知道,许多人只知道尼康的相机做的好,却不知道尼康光刻机同样享誉全球。
5、荷兰A *** L公司
这是一家总部设在荷兰艾恩德霍芬(Veldhoven)的全球更大的半导体设备制造商之一,向全球复杂集成电路生产企业提供领先的综合性关键设备。A *** L的股票分别在阿姆斯特丹及纽约上市。
参考资料来源:百度百科-荷兰A *** L公司
参考资料来源:百度百科-尼康
参考资料来源:百度百科-佳能
参考资料来源:百度百科-上海微电子装备有限公司
参考资料来源:百度百科-ABM
光刻机唯一上市公司
光刻机唯一上市公司是张江高科公司,光刻机(Mask Aligner)又名:掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统等,是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术,把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。
光刻机的品牌众多,根据采用不同技术路线的可以归纳成如下几类:
1、高端的投影式光刻机可分为步进投影和扫描投影光刻机两种,分辨率通常七纳米至几微米之间,高端光刻机号称世界上最精密的仪器,世界上已有1.2亿美金一台的光刻机。高端光刻机堪称现代光学工业之花,其制造难度之大,全世界只有少数几家公司能够制造。国外品牌主要以荷兰A *** L(镜头来自德国),日本Nikon(intel曾经购买过Nikon的高端光刻机)和日本Canon三大品牌为主。
2、位于我国上海的 *** EE已研制出具有自主知识产权的投影式中端光刻机,形成产品系列初步实现海内外销售。正在进行其他各系列产品的研发 *** 工作。
3、生产线和研发用的低端光刻机为接近、接触式光刻机,分辨率通常在数微米以上。主要有德国SUSS、美国MYCRO NXQ4006、以及中国品牌。
拓展资料:
光刻机的主要性能指标有:支持基片的尺寸范围,分辨率、对准精度、曝光方式、光源波长、光强均匀性、生产效率等。
1、分辨率是对光刻工艺加工可以达到的最细线条精度的一种描述方式。光刻的分辨率受受光源衍射的限制,所以与光源、光刻系统、光刻胶和工艺等各方面的限制。
2、对准精度是在多层曝光时层间图案的定位精度。
3、曝光方式分为接触接近式、投影式和直写式。
4、曝光光源波长分为紫外、深紫外和极紫外区域,光源有汞灯,准分子激光器等。
光刻机唯一上市公司
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